真空电镀设备膜厚的不均匀问题
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
磁控溅射镀膜机
真空电镀设备膜厚的不均匀问题
无论监控仪精度怎样,它也只能控制真空室里单点位置的膜厚,一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的,那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性,但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的,磁控溅射镀膜机厂商,所以几乎是不可能消除的,但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响小化。
在过去几年中,磁控溅射镀膜机生产厂,越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统,同时,用户对性能的要求不仅没有降低,反而有所提高,特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。
现在,系统的平均尺寸规格已经在降低,而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此,选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑:对镀膜产品的预期性能,基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。
想要了解更多,欢迎拨打图片上的电话吧!!!
磁控溅射镀膜机的工作原理
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机加工商,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
磁控溅射镀膜机
磁控溅射的工作原理
是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于磁控溅射一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下较终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,磁控溅射镀膜机,致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量,离开靶被溅射出来。
想要了解更多,欢迎拨打图片上的电话吧!!!