实验室真空镀膜装置,北京泰科诺真空镀膜机

镀膜设备较国外的优缺势

真空镀膜技术是现今应用较广的一种先进技术，实验室真空镀膜装置哪家好，也是许多*学科发展的基础技术。中国的真空镀膜技术及镀膜设备的从上世纪60年代发展起来的，80-90年代，真空镀膜技术及镀膜设备得到了长远的发展。随着中国加入WTO，经济**化脚部的加快，实验室真空镀膜装置，我国加入了与整个世界经济市场的竞争。中国的真空镀膜技术和镀膜设备面临着机遇和挑战。

国内镀膜设备的发展劣势：

1、观念上的差距

国内的真空镀膜设备的厂家主要考虑的是国内的中、低端市场，实验室真空镀膜装置哪家好，迫于价格，只能舍弃设备的性能和可靠换取市场份额，使得厂家缺少对设备研制及实施的长期规划。新技术、新工艺的应用迫切性降低，给国外的厂家进入中国市场创造了巨大的机会。国内的厂家不是靠新技术、新工艺、新设备来引导市场，而是被市场的某些临时需求左右，使得国内的技术和国外的技术差距不断加大，虽然价格低，但镀膜的质量不高。

2、规模和投入的差距

我国的厂商多以中、小型规模居多，综合实力低。我国企业的经济体制是以国有资产为主，普遍经济效益不高，发展后劲不足。

3、新技术、新工艺的装换应用上存在差距

创新力度不足，国内多以价格作为市场竞争的手段，对于设计及工艺大多都是相互抄袭，一些新的技术、工艺得不到有效、及时的转换应用。

4、产品质量的差距

国内的加工设备、加工手段等都不先进，使得产品的质量大多低于国外同类产品。虽然有一些能提高产品质量的方法，但一些加工工艺落后的生产方式无法得到应用。我国自动化操作水平低，镀膜的质量大多依靠操作者的操作水平，而不是靠设备的自动化。

国内设备的发展优势：

1、资源

我国研制生产规模和从业人数上具有一定优势。

2、市场

自从加入WTO，我国成为较大的加工基地，市场发展空间巨大。由于镀膜设备价格低廉的优势，可以将市场扩大大印度、泰国等发展中国家。

3、研制和制造成本

我国的研制、人工、加工成本等都低，是国外无法比拟的优势。实验室真空镀膜装置

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真空镀膜设备镀铝工艺常见问题

真空镀膜设备镀铝工艺常见问题

真空镀铝是在真空状态下，将铝金属加热熔融至蒸腾，铝原子凝结在高分子材料外表，构成较薄的铝层。真空镀铝请求基材外表润滑、平坦、厚度均匀；挺度和摩擦系数恰当；外表张力大于38Dyn/Cm2；热性能好，经得起蒸腾源的热辐射和冷凝热的效果；基材含水量低于0.1%。常用的镀铝基材有聚酯(PET)、PP、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、PVC等薄膜。镀铝技术有哪些常见问题？

1、镀铝时薄膜出现孔洞　

①蒸腾舟内铝料太满。解决方法：下降送铝速度；进步蒸腾舟电流。　　

②真空室内蒸腾舟之间呈现短路。解决方法：扫除短路。　　

③真空室内杂质飞溅

2、镀铝时薄膜出现拉伸现象

①基材张力太大。解决方法：调节放卷、卷取张力操控体系，恰当削减张力。　　

②冷却体系工作异常。解决方法：查看冷却体系，并扫除故障。

3、薄膜表面出现褐色条纹　　

①真空度低 解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却体系、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空体系;下降环境湿度。　　

②薄膜释放气体。解决方法：薄膜预枯燥;延伸抽真空时刻。　

③喷铝过多。解决方法：进步车速;下降蒸腾舟电流;下降送铝速度。　　

④蒸腾舟内有杂质。解决方法：清洗蒸腾舟及热屏蔽板。　

⑤蒸腾舟老化。解决方法：替换蒸腾舟。

工艺要求：真空度不得低于103PA，避免呈现褐色条纹或铝层厚度不均表象;操控好体系张力，敞开冷却体系，避免薄膜受热呈现拉伸变形;准确操控卷取速度(280～320m/min)、送铝速度(0.4～0.7m/min?2mm铝丝)及蒸腾舟加热电流，以取得商品请求的铝层厚度(100～300A°);可预先在薄膜上涂布必定干量的底胶，并充沛枯燥，再经真空镀铝，可进步铝层与薄膜的结合力。然后在铝膜上涂布必定量的维护树脂，避免铝层氧化蜕变。经此技术构成的镀铝薄膜，耐摩擦，且不易蜕变。

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真空镀膜设备的选购要点

随着行业的发展，目前真空镀膜设备运用普遍，实验室真空镀膜装置哪家好，那么大家在选购真空镀膜设备时需要注意什么呢？

1、根据工艺要求选择不同规格和类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

2、真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。    

3、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。实验室真空镀膜装置

4、夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可以根据基片尺寸及形状提出对应的要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。

5、充气方式可选用质量流量计、浮子流量计 + 针阀及相应的充气阀门，并可选择多路充气管路及相应流量参数。

6、根据工艺要求选择镀制方式及形式，如电阻蒸发（钨丝、钼舟、石墨舟）磁控源（同轴圆柱型磁控源、园柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材质及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直径靶材，气动、电动的引弧等），真空测量可选择数字式智能真空计及其优质的测量规管，及其它测量仪器，如自动压强控制仪等。膜厚测量可选用方块电阻测量仪，透过率计等。

7、根据设备使用特点，可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。

8、根据需烘烤的结构提出烘烤温度、材质以及所需配备相应仪表测量。

9、完善的报警系统，对真空室体、扩散泵断相、缺水、气压、电源负载的过压、过流等异常情况进行声光报警。

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