磁控溅射设备作用
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,磁控溅射真空镀膜机公司,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
磁控溅射真空镀膜机
磁控溅射靶在镀膜过程中的重要作用? ??
磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件,它的重要作用主要表现在以下两个方面(1)对于大面积表面的镀膜,磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性;(2)当膜层材料为贵重金属时,靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料),即该贵重金属的利用率
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磁控溅射镀膜机原理
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磁控溅射真空镀膜机
磁控溅射镀膜机原理
由此可见,溅射过程即为入射离子通过一系列碰撞进行能量交换的过程,入射离子转移到逸出的溅射原子上的能量大约只有原来能量的1%,大部分能量则通过级联碰撞而消耗在靶的表面层中,磁控溅射真空镀膜机报价,并转化为晶格的振动。溅射原子大多数来自靶表面零点几纳米的浅表层,可以认为靶材溅射时原子是从表面开始剥离的。如果轰击离子的能量不足,则只能使靶材表面的原子发生振动而不产生溅射。如果轰击离子能量很高时,溅射的原子数与轰击离子数之比值将减小,这是因为轰击离子能量过高而发生离子注入现象的缘故。
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