实验型电子束镀膜仪供应商_实验型电子束镀膜仪_泰科诺科技

电子束蒸发与磁控溅射镀膜的分析

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

实验型电子束镀膜仪

附着力

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久耐用的重要因素。溅射原子能量比蒸发原子能量高1—2个数量级。高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗清除了附着力不强的溅射原子，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。

测定附着力所采用的方法是测量Al膜从基片上剥离时所需要的力或者能量，我们采用剥离水法来测定附着力。

设薄膜单位面积的附着能为γ，则宽度为b，长度为a的薄膜的总附着能E=abγ(1)

用于剥离该薄膜的力F所作的功

Wp=Fa(1-sin(θ))(2)

如果是静态剥离并忽略薄膜弯曲时所产生的弹性能，实验型电子束镀膜仪供应商，则F所作的功近似等于薄膜的总附着能，即Wp=E，于是F=bγ/(1-sin(θ))(3)

(3)式中F随着θ角的变化而变化，不能真正反映薄膜的附着性能。当所加剥离力与薄膜垂直，即θ=0°时，则式简化为

F=bγ(4)

根据测量所得的F便可计算出附着能γ=F/b。如果要直接计算单位长度的附着力f，根据定义并采用上述方法(θ=0°)进行剥离可得f=γ。可见，附着力的大小和附着能γ的数据相同，由于Al膜的附着能γ较高，所以其附着力较大。实验测得的数据是：溅射Al膜的平均附着力25N，电子束蒸发Al膜的平均附着力为9.8N。这些数据和理论分析结论一致。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

电子束蒸发蒸镀原理

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，实验型电子束镀膜仪品牌，硬质涂层设备等。

实验型电子束镀膜仪

蒸镀原理电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发，并成膜。电子枪有直射式、环型和e型枪之分。电子束加热蒸镀的特点是能获得较高的能量密度，可达l09w/cm2，加热温度可达3000～6000℃，可以蒸发难熔金属或化合物;被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜;另外，实验型电子束镀膜仪，由于蒸发物加热面积小，因而热辐射损失减少，实验型电子束镀膜仪价格，热效率高。但结构较复杂，且对较多的化合物，由于电子的轰击有可能分解，故不适合多数化合物的蒸镀。电子束蒸镀常用来制备Al、C0、Ni、Fe的合金或氧化物膜，Si02、Zr02膜，抗腐蚀和耐高温氧化膜。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！