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电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，学校电子束镀膜仪报价，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

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两种镀膜原理不同：

电子束蒸发镀膜：利用高能电子束轰击靶材，学校电子束镀膜仪厂家，使材料表面产生很高的温度，由固态直接升华到气态，沉积到工件表面所形成的薄膜，主要运用在光学方面（如：眼镜片的增透膜，CCD镜头，光通讯方面等等）

磁控溅射镀膜：高能离子轰击靶材，使靶材表面原子飞逸出来的过程称溅射，那么采用磁场控制后，溅射出来的原子或二次电子以轮摆线的形式被束缚在靶材表面，使得辉光维持而进行溅射，主要运用在装饰方面（如：钟表，手机外壳等金属表面）

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电子束蒸发镀膜机冷却水路不顺怎么办

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电子束蒸发镀膜机产生冷却水路不通畅或水压不够的情况，会导致冷却能力下降，致使扩散泵上半部分变热，油蒸汽不能良好液化。具体的解决办法将扩散泵进水管接以4mpa的气源，吹出水垢，接出水管同样保持4mpa。若水垢结的很多并且牢固，可通入稀盐酸或者更换扩散泵。

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