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真空镀膜设备镀铝工艺常见问题

真空镀膜设备镀铝工艺常见问题

真空镀铝是在真空状态下，将铝金属加热熔融至蒸腾，铝原子凝结在高分子材料外表，构成较薄的铝层。真空镀铝请求基材外表润滑、平坦、厚度均匀；挺度和摩擦系数恰当；外表张力大于38Dyn/Cm2；热性能好，真空蒸发镀膜设备公司，经得起蒸腾源的热辐射和冷凝热的效果；基材含水量低于0.1%。常用的镀铝基材有聚酯(PET)、PP、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、PVC等薄膜。镀铝技术有哪些常见问题？

1、镀铝时薄膜出现孔洞　

①蒸腾舟内铝料太满。解决方法：下降送铝速度；进步蒸腾舟电流。　　

②真空室内蒸腾舟之间呈现短路。解决方法：扫除短路。　　

③真空室内杂质飞溅

2、镀铝时薄膜出现拉伸现象

①基材张力太大。解决方法：调节放卷、卷取张力操控体系，恰当削减张力。　　

②冷却体系工作异常。解决方法：查看冷却体系，并扫除故障。

3、薄膜表面出现褐色条纹　　

①真空度低 解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却体系、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空体系;下降环境湿度。　　

②薄膜释放气体。解决方法：薄膜预枯燥;延伸抽真空时刻。　

③喷铝过多。解决方法：进步车速;下降蒸腾舟电流;下降送铝速度。　　

④蒸腾舟内有杂质。解决方法：清洗蒸腾舟及热屏蔽板。　

⑤蒸腾舟老化。解决方法：替换蒸腾舟。

工艺要求：真空度不得低于103PA，避免呈现褐色条纹或铝层厚度不均表象;操控好体系张力，敞开冷却体系，避免薄膜受热呈现拉伸变形;准确操控卷取速度(280～320m/min)、送铝速度(0.4～0.7m/min?2mm铝丝)及蒸腾舟加热电流，以取得商品请求的铝层厚度(100～300A°);可预先在薄膜上涂布必定干量的底胶，真空蒸发镀膜设备厂家直销，并充沛枯燥，再经真空镀铝，可进步铝层与薄膜的结合力。然后在铝膜上涂布必定量的维护树脂，避免铝层氧化蜕变。经此技术构成的镀铝薄膜，耐摩擦，且不易蜕变。

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ZHD400-热蒸发镀膜机 Thermal Evaportor

产品参数：

型号： ZHD400

镀膜方式： 多源蒸发镀膜

真空腔室结构： 立式方形前开门结构

真空腔室尺寸 L400×W440×H450mm

加热温度室温～300℃

旋转基片台： 120mm×120mm

基片台升降： 手动调节升降高度0～80mm

膜厚不均匀性： ≤±5.0%

蒸发源： 2～3组金属源，2～3组**源

控制方式： PLC控制

占地面积： 主机L1750×W850×H1910mm

总功率： ≥8KW

选配 ：冷水机、膜厚仪，电源等等

真空蒸发镀膜设备

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蒸发镀膜机-ZHD400

产品技术参数Product Parameters：

1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途：

设备一体化设计，占地面积小，价格优惠，性能稳定，使用维护成本低；设备配备4～6组蒸发源，兼容**蒸发与无机蒸发，多元共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定；

适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、**膜，也可用于生产线前期工艺试验等；适用于蒸发镀膜与手套箱环境**融合，实现蒸镀、封装、测试等工艺无缝对接，广泛用于钙钛矿太阳能电池/OPV**太阳能电池及OLED薄膜等研究系统等。

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主要包含热蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜机、多弧离子溅射镀膜机、热丝CVD设备、装饰镀膜机、DLC硬质涂层设备等等。

真空镀膜知识分享：

真空度对真空镀膜的影响?

真空镀膜时，真空蒸发镀膜设备，真空度一般在10的负3次方左右，真空度大小是真空镀膜时必须严格要求的指标之一，它对镀膜产品的颜色、耐磨性、牢固度有直接的关系，通常镀膜时加少许气体，还有通过对电弧电源的控制增加母材在真空室的离化率，还可通过磁场控制电弧等以改变产品的外观和内在品质。

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