不锈钢镀膜机广泛应用镀膜行业
传统的镀膜行业都是采用水电镀的方式,所谓的水电镀就是运用电解原理,将镀件浸入电解池一段时间,之后在镀件表面形成一层镀膜。这种镀膜方式从设备到环境的要求比较低,从而在早期被广泛应用。但是水电镀的电解池会对水资源造成严重污染,在国家重视环保的前提下,水电镀的发展受到了限制。
而真空镀膜技术是在真空度较好的设备中完成对产品的镀膜,这种方式设备和环境的要求的比较高,因此尚未广泛普及开来,但是真空镀膜不会对环境造成污染,这必将是未来镀膜行业的趋势。真空镀膜机采用不锈钢材质制成,有着优越的抗腐蚀性和耐磨性。相信随着科技的发展,不锈钢镀膜必将取代水电镀广泛应用到镀膜工艺中。实验型真空蒸发镀膜设备
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蒸发镀膜机—北京泰科诺科技有限公司
蒸发镀膜机技术参数 Thermal Evaporator Technical Parameters:
型号Model: ZHD300/ZHD400/ZHDS400
镀膜方式Coating Method: 电阻蒸发/多源蒸发
腔室结构 Chamber Structure: 玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门
腔室尺寸Chamber Size: Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm
加热温度 Baking Temp: 室温~300℃
旋转基片台 Rotating Substrate Holder: Φ100mm/120mm×120mm
基片台升降 Substrate Holder Lifting: 无/手动调节升降高度0~80mm
膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity: 基片台Φ80mm范围内≤±5.0%
蒸发源Evaporation Source: 2组金属源/2~4组金属源、2~4**源(可选)
控制方式Operation Method: PLC
功率 Power: ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW
其他选配 Other Options: 蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等
产品特点 Product Features:
1. 工艺成熟,实验型真空蒸发镀膜设备报价,性能稳定,实验型真空蒸发镀膜设备报价,使用维护成本低;
2. 功能强大,兼容**蒸发与无机蒸发,多元共蒸与分蒸;
3. 一体化设计,占地面积小,可单独或与手套箱集成使用;
4. 适用范围:用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、**膜等,实验型真空蒸发镀膜设备报价,也可用于生产线前期工艺试验;广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV**太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。
真空镀膜机知识分享:
蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别?
真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。
真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量**过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜。
离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,实验型真空蒸发镀膜设备,形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜较常用的是电阻加热法,其优点是加热源的结构简单,造价低廉,操作方便;缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热,电子束的动能变成热能,使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源,但由于大功率激光器的造价很高,目前只能在少数研究性实验室中使用。
溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二较溅射利用的是直流辉光放电;三较溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。
实验型真空蒸发镀膜设备
真空镀膜机的成品
真空镀膜机是一种效率高、多功能、全自动式真空镀膜机,具有结构合理,成膜质量好、抽速大、膜层均匀、生产效率高、工作同期短、操作方便,能耗低性能稳定等优点。真空镀膜制膜种类:半透明膜、不导电膜、金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。真空镀膜成品有:普通电镀亮面、哑面(半哑、全哑)、工艺电镀皱纹、拉丝、雨滴、七彩等;镀制颜色有:金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等等。
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